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[圖(tu)文(wen)]研磨(mo)機廣泛用(yong)于光(guang)學(xue)晶體玻璃、光(guang)纖、模(mo)具、導光(guang)板、閥片、五金(jin)零部件,液壓密封(feng)件、LED藍寶(bao)石,陶瓷,不銹鋼等(deng)各種材料(liao)的單面研磨(mo)及鏡面拋光(guang)。

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本發明屬于光(guang)學元件表面加工技(ji)術領域,涉及光(guang)學研(yan)磨(mo)機(ji)及用其(qi)加工半導體用蘭寶石晶體基片的方法(fa)。研(yan)磨(mo)機(ji)包括機(ji)架(jia),工作臺(tai)面板,一水盆(pen),電機(ji)及其(qi)帶動(dong)的一垂(chui)直轉動(dong)軸,該。

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光學研磨機及用其加工半導體用蘭寶石晶體基片的方法

供(gong)應(ying)供(gong)光學(xue)玻璃及石英_機械及行業設備(bei),價格:180000.00元/臺,品牌:偉隆,型(xing)號:16B,產品別名:雙(shuang)面研磨機,用途(tu):供(gong)光學(xue)玻璃及石英晶體研磨、拋光平面和(he)曲面之用,適用。

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本文(wen)以(yi)有(you)機(ji)非(fei)線性光(guang)學晶(jing)體二(er)苯(ben)甲(jia)(jia)酮為對象,在試驗的基礎上探(tan)討(tao)了軟質(zhi)、脆性且低熔點有(you)機(ji)晶(jing)體的切割(ge)、研磨和拋光(guang)方法。二(er)苯(ben)甲(jia)(jia)酮(Benzophenone)又稱(cheng)苯(ben)酰酮,其。

供應供光學玻璃及石英晶體研磨拋光平面和曲面之用16B型研磨機

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藍(lan)寶(bao)石晶體雙面研(yan)磨均勻(yun)性亞表層損(sun)傷摘要:為了實現對(dui)藍(lan)寶(bao)石晶體的高(gao)效低損(sun)傷研(yan)磨加工,對(dui)藍(lan)10偉冰;雙面高(gao)速研(yan)磨機研(yan)制[D];長春光(guang)學精密機械學院。

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樣品為(wei)配位聚合物(wu)晶(jing)體拿晶(jing)體樣品壓平后直接做粉(fen)末XRD,得(de)到(dao)圖(tu)譜(pu)(pu)a;將(jiang)(jiang)樣品稍微研(yan)磨(mo)后,再做粉(fen)末XRD,得(de)到(dao)圖(tu)譜(pu)(pu)b;然(ran)后將(jiang)(jiang)樣品劇烈研(yan)磨(mo),做粉(fen)末XRD,得(de)到(dao)圖(tu)譜(pu)(pu)c三個圖(tu)譜(pu)(pu)完全(quan)不(bu)。

藍寶石晶體的雙面研磨加工-《光學精密工程》2009年10期

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本(ben)機(ji)廣泛應用于光學玻璃、石英晶體(ti)、陶瓷、硅片等行(xing)業1.本(ben)機(ji)主體(ti)采用一次成型工藝,合理的結構大大提升(sheng)整(zheng)機(ji)剛(gang)性度2.提供(gong)優質(zhi)的傳動系統,運(yun)行(xing)高效穩定(ding),噪音小3.驅動。

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